拉普拉斯水平等離子增強原子層沉積水平鍍膜系統 PEALD LAD400/04
拉普拉斯水平等離子增強原子層沉積水平鍍膜系統 PEALD LAD400/04

拉普拉斯最新的等離子體增強原子層沉積水平鍍膜系統可應用于各種高效太陽能電池AlOx和各種功能性薄膜的生長工藝,為各類太陽能電池核心工藝設備。

了解更多,可通過以下電話或郵箱詳細咨詢
銷售郵箱:sales@laplace-tech.cn
聯系電話:0755-28329695
  • 產品介紹
  • 數據與圖片

系統的應用及特點

本設備水平放片,適合210mm大硅片生產,無卡點印,無劃傷,能幫助客戶提高電池效率和良率。


拉普拉斯等離子體增強原子層沉積水平鍍膜系統 LAD400/04


拉普拉斯等離子體增強原子層沉積水平鍍膜系統 LAD400/04


拉普拉斯等離子體增強原子層沉積水平鍍膜系統 LAD400/04


相關推薦

拉普拉斯低壓水平磷擴散系統 LRP370/05
拉普拉斯低壓水平磷擴散系統 LRP370/05
拉普拉斯低壓水平硼擴散系統 LRB370/05
拉普拉斯低壓水平硼擴散系統 LRB370/05
拉普拉斯低壓水平氧化退火系統  LOX370/05
拉普拉斯低壓水平氧化退火系統 LOX370/05
拉普拉斯低壓水平化學氣相沉積鍍膜系統 LPCVD LLP370/05
拉普拉斯低壓水平化學氣相沉積鍍膜系統 LPCVD LLP370/05