拉普拉斯等離子增強化學氣相沉積水平鍍膜系統 PECVD VEGA LVG400/0X
拉普拉斯等離子增強化學氣相沉積水平鍍膜系統 PECVD VEGA LVG400/0X

拉普拉斯最新的等離子體增強化學氣相沉積水平鍍膜系統可應用于各種高效電池AlOx和SiNx生長工藝,為各類太陽能電池生產和研發的核心工藝設備。

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系統的應用及特點

本設備集成SiO2, SiC,AlOx和SiNx等多種鍍膜工藝,能幫助客戶降低固定資產投入,提高電池良率。本設備水平放片,適合210mm大硅片生產,無卡點印,無劃傷,能幫助客戶提高電池效率和良率。


拉普拉斯等離子體增強化學氣相沉積水平鍍膜系統 LVG400/2

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