拉普拉斯等離子增強化學氣相沉積鍍膜系統 PECVD Twin LPE430/10
拉普拉斯等離子增強化學氣相沉積鍍膜系統 PECVD Twin LPE430/10

拉普拉斯最新的等離子體增強化學氣相沉積鍍膜系統(鍍膜機)可應用于各種高效電池AlOx和SiNx生長工藝,為各類太陽能電池生產和研發的核心工藝設備。

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系統的應用及特點:

本設備集成SiO2, SiC,AlOx和SiNx等多種鍍膜工藝,能幫助客戶降低固定資產投入,提高電池良率。本設備適合156-210mm硅片生產,具有行業內最高產能,能幫助客戶降低固定資產投入和運營成本。


拉普拉斯等離子體增強化學氣相沉積鍍膜系統 LPE410/10

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