拉普拉斯低壓水平硼擴散系統 LRB370/05
拉普拉斯低壓水平硼擴散系統 LRB370/05

拉普拉斯最新的水平低壓硼擴散系統(擴散爐)可應用于P型摻雜,N-PERT和N-TOPCon電池的P型發射極工藝,為下一代高效N-TOPCon太陽能電池的核心工藝設備。

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系統的應用及特點


應用

本設備適合156-210mm硅片生產,無傳統技術的搭片問題及其帶來的方阻均勻性問題,更高的方阻均勻性為客戶帶來更窄的效率分布和更高的電性能良率。更高的方阻均勻性為下一代高方阻工藝提供了可能,能幫助客戶進一步提升產品效率和競爭力。本設備采用氣態硼源,具有耗源量低和維護要求低的特點,運營成本為傳統技術的1/3。本設備具有行業內最高產能,能幫助客戶降低固定資產投入和運營成本。


產品特點

1. 水平放片,管內空間利用率高,不僅能耗低,且具有業內最高的產能;

2. 硅片方向與氣流方向一致,硅片對氣流阻擋小,片內/片間均勻性更優;

3. 自重擠壓,減少硅片間間隙,繞擴/繞鍍可控;

4. 水平放片,更適合超大,超薄硅片生產;

5. 電池技術適用性和通用性高,可用于PERC,TOPCon等各種電池結構;

6. 整機模塊化設計,兼容性好,可相互升級轉換;


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